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新品直击|DM8 工业版激光共聚焦

更新时间:2026-09-28点击次数:11


看见材料表征的发光世界



当材料研究从宏观形貌走向微区结构,仅仅“看见"样品已经不够。研究人员还需要更高的分辨率,识别不同区域的发光差异,分析弱荧光信号,并在二维、三维乃至时间维度上建立完整、可追溯的成像证据。


面向材料科学研究与工业分析需求,近期徕卡显微系统新推出了Leica DM8荧光共聚焦系统。从反射光荧光共聚焦成像,从点扫描光路到多维数据采集,DM8致力于帮助用户在复杂材料样品中发现更多细节,让微区发光特性从图像走向证据。



新品直击|DM8 工业版激光共聚焦





从二维图像,扩展到XYZ与时间维度


传统二维图像可以呈现样品表面的平面信息,但对于多层结构、更小的微观细节以及随时间发生的变化,研究人员往往需要更丰富的数据维度。


DM8可沿Z轴连续采集光学切片,用于重建样品内部结构。在XYZ空间信息基础上,还可叠加时间序列,实现XYZT多维数据采集,为材料内部结构观察和动态变化追踪提供更完整的成像基础。LAS X Navigator则支持从大视野定位逐步进入多维数据采集流程。


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激发与检测自由匹配,释放材料光谱信息


材料样品的发光特性往往具有较大的波长差异。面对未知材料、自发荧光样品或多种荧光组分,固定激光谱线和固定检测窗口可能限制实验设计。


DM8采用棱镜分光与AOBS,可实现激发谱线的精确调谐。其可调光谱检测范围为410至850 nm,发射检测波段可自由设置,最小检测带宽为5 nm,最多可同时选择8根谱线。窄激发缺口设计有助于减少发射信号损失,为不同激发与检测组合提供更高灵活性。


新品直击|DM8 工业版激光共聚焦
新品直击|DM8 工业版激光共聚焦




DM8 WLL白激光器的标准连续可调范围为485至685 nm,最多可同时输出8根谱线。系统可选NIR扩展至790 nm,WLL Plus范围为440至790 nm。通过激发与发射光谱扫描,用户可以优化染料选择与接收范围,材料自发荧光光谱扫描也不再受固定激光谱线的限制。


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更高探测效率,为弱信号保留更多细节


Power HyD S探测器,可实现高灵敏度光谱检测、弱信号成像。

  • 蓝绿区PDE相较传统PMT提升>2倍

  • 500 nm 典型PDE可达 58%




核心优势:

  • 更亮的信号,保留更多图像细节

  • 更多荧光颜色自由组合,提升检测灵活性




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面向多类材料研究场景


DM8聚焦材料微区发光特性分析,可面向多种制造业材料科学与工业研究方向,包括:


1


光电新材料|钙钛矿光电器件核心研究场景

2


半导体与微电子|精密器件质控与失效分析

3


新能源产业|电池核心材料工艺研究

4


制造业先进功能材料|高分子/复合材料检测

5


光学与精密元件|gao端器件表面品质评估

6


石油地质能源|大尺寸矿物等微观表征

7


文博保护与科研刑侦|微量无损表征研究



通过材料本征荧光或标记荧光,系统可为不同材料提供多尺度成像信息,帮助研究人员从样品概览、目标定位、光谱选择、二维成像逐步进入三维重建和微区细节分析。



部分配置信息


观察方式


反射光(荧光);共聚焦

激光波段


405 nm激光

485–685 nm连续可调白激光(可扩展至790 nm)

488 nm、561 nm、638 nm标准可见光激光

最小横向分辨率:120 nm

最小纵向分辨率:200 nm



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