Leica EM MED020 模块化高真空镀膜系统产品介绍

Leica EM MED020 模块化高真空镀膜系统：

Leica EM MED020 是一款精密高真空样品制备系统，也是目前能在单一设备中提供广泛镀膜配置的模块化仪器。它采用清洁高真空泵系统，结合多种镀膜方式，可为最新高分辨场发射 SEM、TEM 以及光学、物理、电子等领域的真空镀膜应用提供高分辨率溅射或碳镀膜。

主要镀膜配置：

• 高真空溅射

• 碳丝蒸发

• 碳棒蒸发

• 热阻蒸发

• 电子束蒸发

与 Leica EM VCT100 冷冻传输系统联用时，还可实现冷冻断裂、冷冻干燥、冷冻蚀刻、双复型、冷冻 SEM 镀膜及冷冻样品高真空冷冻传输观察。

核心特点：

• 模块化台式设计，可快速更换工艺模块，适应多种应用；

• 自动提升系统，便于蒸发源进料与设置；

• 可预选并存储溅射参数，确保结果可重复；

• 快速卡扣系统集成安全设计，镀膜系统更换简便、安全、快速；

• 工作距离无级调节，灵活控制镀膜速率与分布；

• 多种高质量真空腔，真空性能可靠，可拆卸清洗，便于不同工艺切换；

• 高性能无油真空泵系统，无油回流、无污染，薄膜质量高；

• 辉光放电装置可改善镀层附着力、实现样品溅射蚀刻清洁，并使碳膜亲水；

• 卡口式箔靶更换系统提供理想热接触，保证薄膜质量；

• 可编程定时器，支持定义膜厚沉积与可重复镀膜；

• 集成挡板用于预溅射，防止样品在去除靶材氧化层前受到污染；

• 可变真空腔几何结构，适用于不同形状和尺寸样品；

• 旋转-行星-倾斜样品台支持预设角度投影、多角度运动和快速配置修改；

• 金属与碳镀膜应用之间无交叉污染。

EM QSG100 石英晶体膜厚监控仪：
Leica EM QSG100 石英晶体膜厚监控系统可精确测量膜厚和镀膜速率，确保溅射或蒸发层具有最高重复性，适用于所有 EM MED020 应用。其特点包括：挡板终止便于安全复型制备；膜厚终止可调至 1 nm；优化石英头定位实现精确厚度测量；记忆功能支持 5 层独立厚度值；可编程层序用于多层镀膜；内置多种镀膜材料库。

主要应用：

• 高分辨 SEM 细晶粒溅射镀膜；

• 大面积样品（晶圆、光盘等）导电镀膜；

• 铝、铬、钴、铜、金、金/钯、铱、铁、钼、镍、铂、银、钛、钨等金属薄膜工业工艺；

• 多层膜系统；

• 使用 Leica EM VCT100 冷冻传输系统进行冷冻样品分析镀膜；

• X 射线微区分析（EDX、WDX）导电碳膜；

• 火棉胶或 Formvar 支持膜上的碳增强膜；

• 高分辨 TEM/SEM 细晶粒碳膜或碳/金属混合膜；

• 复型与干涉镀膜；

• 工业和材料科学中的多层金属与非金属系统。

冷冻样品制备：
Leica EM VCT100 可与 Leica EM MED020 连接，用于冷冻蚀刻/断裂及后续镀膜。冷冻镀膜样品可在真空和低温下无污染传输至 SEM、FIB、SIMS、AFM 或 XPS 腔室进行后续观察。EM MED020 冷冻干燥单元可精确控温，适用于 SEM 样品或 TEM 冷冻切片的冷冻干燥，并通过逆流加载装置传输样品，随后进行溅射或蒸发镀膜。