华维纳 LDW-1500 无掩模激光直写光刻系统产品介绍

LDW-1500 型无掩模激光直写系统由苏州华维纳纳米科技有限公司开发，专为科研实验室和小型超净室设计，适用于快速制造原型样品和小规模生产。系统采用 405nm 蓝光激光直写技术，无需传统铬玻璃掩模板，通过电脑程序控制激光脉冲在有机光刻胶或无机薄膜样片上直接曝光绘出图案，兼具高精度、高速度与灵活高效的特点，可满足科研院所、高校实验室及小批量生产的个性化需求。

核心技术：

• 主刻写激光波长 405nm，可曝光 G-line、H-line、I-line 和宽带光刻胶；

• 标准配备数值孔径 0.90、0.65、0.40 三组刻写物镜，0.90 NA 下聚焦光斑可达 200nm；

• 利用激光与受体材料的非线性作用，可实现约 50nm 直径孔洞和小于 100nm 线条结构；

• 对焦激光采用 650nm 小功率红光，CCD 使用 532nm 绿光 LED 辅助照明，不影响主激光刻写；

• 内置自动对焦系统，可对极小样品进行自动对焦，并支持表面预扫描测绘、自动生成高程图，刻写时自动校正对焦。

主要特点：

• 高精度 XYZ 三轴压电陶瓷 50mm 基片台，带真空导槽和真空泵，另配 XY 两轴手动 50mm 位移平台；

• 刻写速度：在 75nm 网格间距、1500μm 最大刻写面积下，有效书写速度可达 75000μm²/min；速度档位可选 30mm/s、15mm/s、1.5mm/s；

• 样片尺寸：从最小 4mm² 到 2 英寸直径样片均可稳固刻写；

• 支持 TIFF、BMP、JPG 等常见图片格式，可直接读取设计文件并灵活调整刻写内容；

• 控制软件为直观的 Windows 界面，运行于 Windows 7 系统，涵盖布局设计、基片对焦、参数设定、刻写曝光、样品观察、功率校正和反射率测定等全部操作；

• 功率映射校正可通过软件自动完成，固体激光器寿命长且无需维护；

• 系统占地 1.4m×1.2m，工作区域要求 2.8m×1.9m，只需标准电源线供电；

• 配套设施：设备主体 220VAC 50Hz 10A，防震台 220VAC 50Hz 2A；建议配置光学显微镜，并在万级以上洁净间使用；

• 环境要求：室内温度 15–25°C，室温稳定度 ±2°C。

系统基本配置：
带高速控制器的 XYZ 三轴压电陶瓷 50mm 基片台、真空导槽和真空泵、XY 两轴手动 50mm 位移平台、NA 0.90/0.65/0.40 三组镜头、200nm 分辨率 405nm 激光直写头、绿光 LED 照明对准与观测相机、半导体红光激光自动对焦系统、自动校正软件和光电探测器、保持内部环境隔绝空气扰动的制备舱、被动式压缩空气减震系统、64-bit Windows 7 电脑及 27″ 显示器、基于 Windows 的控制软件。

应用案例：
LDW-1500 已用于制作灰度掩模图样、复合薄膜微纳米隧道结构、高精度微电路电极、电路板构造，以及在 Ti 薄膜上刻写各种自支撑纳米带阵列结构等，广泛适用于纳米技术、微电子、半导体等领域的微纳结构加工。