华维纳无掩模纳米光刻机产品介绍

华维纳无掩模纳米光刻机由苏州华维纳纳米科技有限公司自主研发，主要包括 LDW-P 系列和 LDW-L 系列，面向科研团队、加工平台及小批量生产，广泛适用于微纳结构及器件制造、材料工艺探索和纳米技术、微电子、半导体等领域。

LDW-P 系列包括 P1500、P1000、P500、P200、P100 等型号，具有结构紧凑、加工分辨率高、操作方便、维护简单、无受体材料限制等特点。设备利用激光与材料的非线性相互作用，突破衍射极限，实现超衍射分辨纳米加工，最小孔洞直径可达 50nm，最小刻写尺寸可达 100nm，刻写聚焦光斑直径小至 275nm，刻写网格间距小至 75nm。

系统由样品刻写、自动聚焦、功率校准和观测分析四大系统组成，采用高稳定性一体式大理石基座和模块化设计，刻写、聚焦、监视互不干扰，并配有防震与隔绝空气扰动外壳。高精度压电陶瓷工件台分辨率 1nm，绝对定位精度小于 10nm，刻写范围可选 1500×1500、1000×1000、500×500、200×200、100×100 μm，另配大行程手动 XY 移动台（25mm×25mm，精度 0.01mm）。LDW-SC 控制软件支持 TIFF、BMP、JPG、GDSII、GDS-TXT、BDF 等格式，具备自动聚焦、样品扫描、一键刻写和在线分析功能。

LDW-L 系列特征尺寸可达金属材料 ≤100nm、无机相变材料 ≤150nm、光刻胶 ≤300nm，光斑尺寸 275nm，刻写范围 100×100、50×50、25×25mm 等，最小刻写点间隔 75nm，刻写速度 100mm/s。设备可将受体材料扩展至半导体材料、金属材料、有机材料等，适用于掩膜加工、光栅、微电路电极、菲涅尔透镜、有机材料微纳隧道等结构与器件制备。

苏州华维纳纳米科技有限公司成立于 2011 年，以中科院为技术依托，获国家重大科学仪器设备开发专项、姑苏ling军、江苏省双创人才等项目支持，已推出三大系列纳米光刻系统，拥有核心zhuan利 8 项，2015 年被认定为高新技术企业。