产品简介

纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衔射极限加工的激光直写系统，可用于品圆尺寸的大面积微纳加工，适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号，具有功能*、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级。

纳米激光直写系统在晶圆尺寸相关的微纳加工领域具备极为突出的显著优势，尤其在晶圆尺寸的研究开发工作与小批量生产需求方面表现出众，能够精准契合晶圆加工过程中的各类核心场景，无需复杂适配即可快速投入使用，为科研机构的晶圆相关研发工作、企业的小批量晶圆加工量产任务，提供高效、稳定、可靠的核心技术支撑，助力科研与生产环节高效推进，兼顾研发精度与生产效率。

纳米激光直写系统本身是一款集成多重核心优势的专业激光直写设备，其核心具备四大关键特性，分别是大面积加工、高精度控制、可套刻操作、超衍射极限加工，这四大特性协同发力、相辅相成，从加工范围、精度、兼容性、技术突破等多方面保障加工质量与效率，凭借这些核心优势，该系统可高效、精准地完成晶圆尺寸的大面积微纳加工任务，突破传统加工技术的局限。同时，该系统的适用范围十分广泛，可灵活适配于各种微纳结构的制备工作、各类微纳器件的制造流程，既能满足科研领域的个性化微纳结构研发需求，也能适配企业小批量微纳器件的生产需求，真正实现科研与小规模生产双重场景的兼顾，提升设备的利用率与实用性。

为了更好地满足不同用户的差异化需求，该纳米激光直写系统推出了包含多种不同型号的产品系列，其中典型代表性型号有L50、L100等，不同型号在功能配置、加工规格等方面各有侧重，可根据用户的具体加工需求、应用场景、精度标准等差异化诉求灵活适配，确保每一位用户都能找到贴合自身需求的设备型号。除此之外，全系列系统均具备丰富且实用的核心特征，具体如下：功能配置*完备，可全面覆盖多类微纳加工需求，无需额外搭配辅助设备；维护流程简单便捷，无需专业的高级运维人员，大幅降低设备的运维成本与运维难度；加工分辨率处于行业较高水平，能够精准呈现微纳结构的细微细节，保障加工成品的精度与一致性；支持多种不同的刻写模式，可根据加工工艺、结构要求等灵活切换，适配多样化的加工场景；兼容多种不同类型的受体材料，有效拓宽了设备的应用范围，减少材料适配带来的局限。

除此之外，该纳米激光直写系统在初期设计阶段便充分考量了用户的后续长期使用需求与功能拓展需求，特意预留了充足的物理安装空间与充足的硬件资源储备，后续用户若有功能升级、性能优化的需求，无需对设备进行大规模的拆解改造，仅需依托预留的空间与资源进行简单升级即可，既节省了升级成本，也缩短了升级周期，能够轻松满足后续不同阶段的功能升级、性能优化诉求，为设备的长期稳定使用与功能拓展提供了充足且可靠的保障，延长设备的使用寿命与使用价值。