技术文章
TECHNICAL ARTICLES共聚焦显微镜在MEMS高深宽比结构三维形貌与侧壁测量中的应用
2026-09-24 MEMS器件中的微梁、微齿轮、微通道和悬臂结构,常具有高深宽比和陡峭侧壁,传统显微镜难以准确测量侧壁角度和深度。共聚焦显微镜通过逐层扫描可获取高深宽比结构的三维形貌,是MEMS工艺监控和失效分析的常用工具。检测时,将MEMS芯片置于载物台,无需特殊制样。先低倍定位目标结构,再高倍进行层扫。软件重建三维形貌,可测量台阶高度、沟槽深度、侧壁角度和表面粗糙度。操作要点:①保持环境清洁,避免灰尘落入微结构;②使用防震台,减少振动对层扫的影响;③选择长工作距离物镜,避免物镜碰撞高结构;...共聚焦显微镜在半导体晶圆表面微结构三维测量与缺陷分析中的应用
2026-09-24 半导体晶圆表面微结构(如浅沟槽隔离、金属互连线、通孔)的特征尺寸不断缩小,对三维测量精度要求达到纳米级。白光干涉和超景深显微镜适用于表面形貌,但对于透明薄膜下的界面、高深宽比深槽和陡峭侧壁,激光扫描共聚焦显微镜更具优势。共聚焦显微镜利用针孔阻挡离焦光,仅接收焦平面信号,通过逐层扫描实现三维重建,可测量深槽深度、侧壁角度、薄膜厚度和表面粗糙度。检测时,将晶圆样品直接置于载物台,无需制样。先低倍定位目标区域,再高倍进行Z轴层扫。软件合成三维形貌,测量沟槽深度、线宽和侧壁角度。操作...
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