技术文章
TECHNICAL ARTICLES半导体显微镜在芯片钝化层针孔与表面缺陷检测中的应用及操作要点
2026-10-09 钝化层是芯片表面的一层保护薄膜,通常为氮化硅或二氧化硅,用于阻挡水汽、离子污染和机械损伤。钝化层中的针孔、裂纹、颗粒和划伤可能导致漏电、腐蚀和失效。半导体显微镜可用于钝化层表面缺陷的快速筛查和定位。检测时,将芯片样品直接置于载物台,无需特殊制样。先低倍扫描整体表面,定位异常区域,再切换高倍观察细节。暗场照明对针孔和微小颗粒非常敏感,缺陷在暗背景下呈现亮点;DIC模式可凸显划伤和裂纹的高度差;明场照明适合观察较大缺陷和污染。软件可测量针孔直径、划痕长度和缺陷密度。操作要点:①在...半导体显微镜在倒装芯片底部填充空洞与填充均匀性检测中的应用及操作要点
2026-10-09 倒装芯片通过焊球与基板连接,芯片与基板之间的间隙通常用底部填充胶(underfill)填充,以缓解热应力、提高机械强度和可靠性。底部填充中的空洞、未填满、分层和填料分布不均,可能导致应力集中和焊点开裂。半导体显微镜可用于截面观察底部填充的填充状态和空洞分布。检测时,将倒装芯片样品切割、镶嵌、研磨、抛光,使底部填充区域沿截面暴露。在明场下观察填充胶的分布、填料颗粒和界面结合;暗场照明有助于发现空洞和分层;DIC模式可增强填充胶与芯片、基板界面的衬度。软件可测量填充高度、空洞面积...半导体显微镜在TSV硅通孔截面形貌与填充质量分析中的应用及操作要点
2026-10-09 硅通孔(TSV)是3D集成和先进封装的关键技术,通过在硅片内制作垂直导电通道实现芯片堆叠互连。TSV的铜填充质量直接影响电性能和可靠性,常见缺陷包括空洞、缝隙、填充不wan全和阻挡层破损。半导体显微镜是观察TSV截面形貌、测量孔径深度和评估填充质量的常用设备。检测时,将TSV晶圆或芯片样品切割、镶嵌、研磨、抛光,使通孔沿中心截面暴露。在明场下观察铜填充区、阻挡层和硅基体的衬度差异;暗场照明有助于发现空洞和缝隙;DIC模式可凸显界面起伏。软件可测量TSV孔径、深度、填充率和空洞...体视显微镜在太阳能电池片与光伏组件外观缺陷检测中的应用及操作要点
2026-10-08 太阳能电池片和光伏组件在生产过程中可能出现隐裂、栅线断线、焊带偏移、气泡、划伤和污染等缺陷。这些缺陷会降低光电转换效率,甚至造成热斑和失效。体视显微镜可用于电池片和组件的外观检查,观察栅线形貌、焊带位置和表面缺陷。检测时,将电池片或小组件置于载物台,先低倍扫描整体,定位异常区域,再高倍观察细节。明场照明适合观察栅线和焊带;暗场照明对微裂纹和划痕更敏感;DIC模式可凸显表面起伏。软件可测量栅线宽度、断线长度和焊带偏移量。操作要点:①操作环境应清洁,避免灰尘落在电池片表面;②电池...
4001109391
Copyright © 2026 北京世润科学仪器有限公司 All Rights Reserved 备案号:京ICP备2025122698号-2
管理登录 技术支持:化工仪器网 sitemap.xml
地址:北京市朝阳区望京东路8号院2号锐创国际中心-B座13层 邮箱:info@srinstrument.com