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TECHNICAL ARTICLES从掩模版到量子点:新型激光直写在半导体与微纳加工中的十个真实应用场景
2026-10-19 从掩模版到量子点:新型激光直写在半导体与微纳加工中的十个真实应用场景激光直写(LDW)常被贴上"只能做光刻胶曝光"的标签。但基于激光与物质非线性相互作用的新型纳秒激光直写系统出现后,情况发生了变化:受体材料不再局限于有机光刻胶,加工分辨率突破了衍射极限,应用边界也随之大幅扩展。以下内容整理自《中国激光》等期刊公开发表的综述与研究论文,所有案例均基于华维纳HWN-LDW系列设备(P1500、P100、L4等型号)完成,并注明了完成单位与数据来源。如果您所在的团队正在开展相关方向...从 Nature 子刊到 Nano Letters:学术论文里的华维纳激光直写设备
2026-10-19 从Nature子刊到NanoLetters:学术论文里的华维纳激光直写设备——一台科研装备的价值,由它产出的论文来回答国产设备登上国际期刊:从"买进口设备做研究"到"用国产设备出成果"这份论文清单还有一层值得关注的含义:这些发表在国际期刊上的成果,是用中国企业自研自产的设备完成的。在相当长一段时间里,国内微纳加工研究的默认配置是进口设备——论文的实验部分写满国外厂商的设备型号。而上述论文中反复出现的"HWN-LDW-P1500""HWN-LDW-P200"等型号,来自苏州华维...无掩模、超衍射、多受体:华维纳新型纳秒激光直写系统产品深度解读
2026-10-19 无掩模、超衍射、多受体:华维纳新型纳秒激光直写系统产品深度解读——国产激光直写刻写分辨率之光超分辨赛道上的本土路线:国产激光直写的分辨率答卷在微纳加工领域,"分辨率"是硬通货。长期以来,想要获得高加工分辨率,国内实验室的选项基本只有进口电子束光刻或进口直写设备,采购周期长、经费压力大、维护受制于人。学界综述将现有超分辨加工技术归纳为五条路线,其中基于阈值自局域效应的新型纳秒激光直写,是本土自主研发并实现商业化的路线。这条路线由苏州华维纳纳米科技有限公司完成工程化落地:405n...
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